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          質譜成像基質微噴霧分析系統
          產品型號:μMatrix Spotter
          產品代碼:
          產品價格:
          折 扣 率: 0
          最后更新:2015-08-24
          關 注 度:4243
          生產企業:華儀行北京科技有限公司
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          產品詳細介紹質譜成像基質微噴霧系統
          公司簡介:
          MALDI質譜成像技術已成為生物標志物研究、醫學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質噴涂技術可大大提高MALDI質譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發的μMatrix(矩陣觀察)微噴霧系統是質譜組織成像領域內一款新型的基質制備設備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產生高重現性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領域,該系統也可以制備均質的酶消化樣本。與市場上傳統的納升級噴霧系統不同,此微噴霧系統采用全新的精細霧點控制模塊,率先在細微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質。也可將胰蛋白酶直接噴灑在組織表面,進行表面蛋白質原位酶解,不但能看到目標蛋白質的分布,而且能通過質譜儀直接鑒定蛋白質。
          聯系人:張經理
          聯系電話:18811701535
          QQ:2766223075
          技術指標:
          應用精度:±50μm
          噴霧分辨率:5760*1440 dpi
          樣品槽:支持6個樣品瓶位
          噴霧速度:大約30秒 (在 5×5 cm2區域上)
          自動應用控制器:定量重復噴霧
          板支架:384孔格式板,專用銦錫導電載玻片(ITO slide glass)
          加熱板:溫度范圍20~50℃
          壓電式噴霧單元:3 PL /最少

          ■性能:

             精確性和均一性

              μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區域繪制成微斑點的矩陣陣列。

          操作簡單
           
              其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質的數量、斑點面積以及位置。



          可重現性

              通過使用pL-級壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質溶液的高還原性斑點,如HCCA (L) 和 DHB (R)。

          ■應用:MS成像
            小鼠腦組織脂質成像
             SA基質晶體           小鼠腦脂質
          使用μ矩陣觀察           m/z 788            m/z 826             m/z 850
            使用空氣噴射式方法



          乳腺癌組織的胰蛋白酶消解
          使用μMatrix Spotter對進行胰蛋白酶消解后的乳腺癌組織MALDI-TOF MS。質譜成像顯示肽m/z 1213和1396的分布;肽m/z 1213通過MS/MS分析被識別為人類Ig α-2 鏈。

          發芽馬鈴薯毒素成像

          使用μMatrix Spotter顯示50通道DHB馬鈴薯芽切片成像。

          ■μMatrix Spotter
          μMatrix Spotter產品優勢

          胰蛋白酶溶液和優化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質譜成像實驗。
          μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質打印區域,從而盡量減少基質溶液的使用。
          通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實現打印區域基質的一致性。
          MALDI MS成像的組織提取物可實現少量重復打印控制。重復數量和干燥時間可根據個個實驗的目的進行優化控制。
          可同時打印4個氧化銦錫載玻片。


          配件
                 斑點探測頭           標尺模板
          電源線        靶托      清潔元件      樣品瓶     USB線

              產品應用于蛋白質組學研究,MALDI-TOF MS和表面科學等領域。制造成本低,為MALDI-TOF MS提供更簡化、更先進的實驗用具。

          專業的質譜載樣臺
          ·疏水性和親水性結構設計
          ·基質噴霧細而均勻
          ·基質用量少
          aaaa·一次性使用

          μ陣列質譜載樣臺
          ·均勻密點陣列→HTS專有
          ·μ焦點技術→高靈敏性
          ·一次性使用
          ·高成像性

          氧化銦錫涂層質譜載玻片

          ·經濟性,高成像性
          ·穩定的氧化銦錫涂層
          ·25 x 75 mm, I型或II型
          ·厚度0.7 mm 和 1.1 mm



















          華儀行北京科技有限公司
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